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Chen,  Yi-Ling

Plasma diagnostics applying K-line emission profiles of Si and Ar

Rostock : Universität , 2015

https://doi.org/10.18453/rosdok_id00001490

http://purl.uni-rostock.de/rosdok/id00001490

Abstract:

Modifications of K-line profiles due to a warm dense plasma environment are a suitable tool for plasma diagnostics since X-ray emissions strongly depend on the ion configuration an emitter environment. The plasma environment leads to a red shift increasing at higher free electron density and rising temperature. Alternatively, excited states and ionized emitter configurations lead to a blue shift. Both shifts have been taken into account for the calculation of line profiles of silicon and argon.

Dissertation Open Access


Einrichtung :
Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät
Gutachter :
Reinholz,  Heidi  (Dr.)
Schlanges,  Manfred  (Prof. Dr.)
Jahr der Abgabe:
2014
Jahr der Verteidigung:
2014
Sprache(n) :
Englisch
übersetzte Zusammenfassung :
Die Modifizierung von Linienprofilen von K-Linien ist für die Plasmadiagnostik geeignet, da die Röntgenemissionen stark von der Ionenkonfiguration und der Emitterumgebung bestimmt werden. Die Plasmaumgebung führt zu einer Rotverschiebung, die mit zunehmender Dichte freier Elektronen und ansteigender Temperatur zunimmt. Andererseits zeigen die K-Linien angeregter und ionisierter Emitter eine deutliche Blauverschiebung. Beide Effekte wurden bei der Berechnung der Linienprofile von Silizium und Argon berücksichtigt.
Schlagworte:
warm dense plasma, K-line emission profiles, plasma polarization
DDC Klassifikation :
530 Physik
URN :
urn:nbn:de:gbv:28-diss2015-0040-3
Persistente URL:
http://purl.uni-rostock.de/rosdok/id00001490
erstellt am:
2015-02-16
zuletzt geändert am:
2018-06-30
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