Plasma diagnostics applying K-line emission profiles of Si and Ar

Yi-Ling Chen

doi:10.18453/rosdok_id00001490

Chen, Yi-Ling

Plasma diagnostics applying K-line emission profiles of Si and Ar

Rostock : Universität , 2015

https://doi.org/10.18453/rosdok_id00001490

http://purl.uni-rostock.de/rosdok/id00001490

Abstract:

Modifications of K-line profiles due to a warm dense plasma environment are a suitable tool for plasma diagnostics since X-ray emissions strongly depend on the ion configuration an emitter environment. The plasma environment leads to a red shift increasing at higher free electron density and rising temperature. Alternatively, excited states and ionized emitter configurations lead to a blue shift. Both shifts have been taken into account for the calculation of line profiles of silicon and argon.

Dissertation Open Access

Einrichtung :

Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät

Gutachter :

Reinholz, Heidi (Dr.)

Schlanges, Manfred (Prof. Dr.)

Jahr der Abgabe:

2014

Jahr der Verteidigung:

2014

Sprache(n) :

Englisch

übersetzte Zusammenfassung :

Die Modifizierung von Linienprofilen von K-Linien ist für die Plasmadiagnostik geeignet, da die Röntgenemissionen stark von der Ionenkonfiguration und der Emitterumgebung bestimmt werden. Die Plasmaumgebung führt zu einer Rotverschiebung, die mit zunehmender Dichte freier Elektronen und ansteigender Temperatur zunimmt. Andererseits zeigen die K-Linien angeregter und ionisierter Emitter eine deutliche Blauverschiebung. Beide Effekte wurden bei der Berechnung der Linienprofile von Silizium und Argon berücksichtigt.

Schlagworte:

warm dense plasma, K-line emission profiles, plasma polarization

DDC Klassifikation :

530 Physik

URN :

urn:nbn:de:gbv:28-diss2015-0040-3

Persistente URL:

http://purl.uni-rostock.de/rosdok/id00001490

erstellt am:

2015-02-16

zuletzt geändert am:

2018-06-30