Titel: |
Plasma diagnostics applying K-line emission profiles of Si and Ar |
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Beteiligte Personen: |
Yi-Ling Chen[VerfasserIn] |
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1065924526 |
Heidi Reinholz
, Dr.[AkademischeR BetreuerIn] |
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112466907 |
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University of Rostock, Department of Physics |
Manfred Schlanges
, Prof. Dr.[AkademischeR BetreuerIn] |
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University Greifswald, Department of Physics |
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Beteiligte Körperschaften: |
Universität Rostock, Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät[Grad-verleihende Institution] |
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2147083-2 |
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Zusammenfassung: |
Modifications of K-line profiles due to a warm dense plasma environment are a suitable
tool for plasma diagnostics since X-ray emissions strongly depend on the ion configuration
an emitter environment. The plasma environment leads to a red shift increasing at
higher free electron density and rising temperature. Alternatively, excited states
and ionized emitter configurations lead to a blue shift. Both shifts have been taken
into account for the calculation of line profiles of silicon and argon.
[Englisch] |
Die Modifizierung von Linienprofilen von K-Linien ist für die Plasmadiagnostik geeignet,
da die Röntgenemissionen stark von der Ionenkonfiguration und der Emitterumgebung
bestimmt werden. Die Plasmaumgebung führt zu einer Rotverschiebung, die mit zunehmender
Dichte freier Elektronen und ansteigender Temperatur zunimmt. Andererseits zeigen
die K-Linien angeregter und ionisierter Emitter eine deutliche Blauverschiebung. Beide
Effekte wurden bei der Berechnung der Linienprofile von Silizium und Argon berücksichtigt.
[Deutsch] |
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Dokumenttyp: |
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Einrichtung: |
Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät |
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Sprache: |
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Sachgruppe der DNB: |
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Veröffentlichung / Entstehung: |
Rostock
Rostock: Universität Rostock
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2015
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Identifikatoren: |
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Zugang: |
frei zugänglich (Open Access)
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Lizenz/Rechtehinweis: |
alle Rechte vorbehalten Das Werk darf ausschließlich nach den vom deutschen Urheberrechtsgesetz festgelegten Bedingungen genutzt werden. |
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RosDok-ID: |
rosdok_disshab_0000001311 |
erstellt / geändert am: |
16.02.2015 / 08.08.2023
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Metadaten-Lizenz: |
Die Metadaten zu diesem Dokument sind gemeinfrei (CC0 1.0 Universal Public Domain Dedication). |